污水處理廠低溫等離子體惡臭處理技術(shù)機(jī)理

 

在污水處理系統(tǒng)中，***要產(chǎn)生污染源的當(dāng)?shù)厥沁M(jìn)入格柵、曝氣沉沙池、曝氣池及終究儲泥池等工序段。污水處理廠進(jìn)水中的惡臭成分：硫化氫、二硫化碳、鉀硫醇、二甲基硫、二甲基二硫、二甲胺、三甲胺、異丙胺、吲哚、甲基吲哚。

 

低溫等離子體除臭的機(jī)理

 

 等離子體去除惡臭是通過兩個途徑完成的：一個是在高能電子的瞬間是高能量效果下，翻開某些有害氣體分子的化學(xué)鍵，使其直接分解成單質(zhì)原子或無害分子；另一個是在很多高能電子、離子、激起態(tài)粒子和氧自在基、氫氧自在基（自在基因帶有不成對電子而具有很強(qiáng)的活性）等效果下的氧化分解成無害產(chǎn)品。***要有下面幾個進(jìn)程：

 

1、在高能電子效果下，強(qiáng)氧化性自在基O、OH、OH2的產(chǎn)生；

 

2、有機(jī)物分子遭到高能電子磕碰被激起，及原子鍵開裂構(gòu)成小碎片基團(tuán)和原子；

 

3、O、OH、HO2與激起原子、有機(jī)物分子、廢氣處理公司破碎的基團(tuán)、其他自在基等產(chǎn)生一系列反響，有機(jī)物分子終究被氧化降解為CO、CO2、H2O。去除率的凹凸與電子能量和有機(jī)物分子結(jié)合鍵能的***小有關(guān)。

 

從除臭機(jī)理上剖析，***要產(chǎn)生以下反響：

 

           H2O+O2、O2-、O2+——SO3+H2O

 

           NH3+O2、O2-、O2+——NOx+H2O

 

H2S去除率可達(dá)91.9％，NH3去除率可達(dá)93.4％，臭氣濃度去除率可達(dá)93.6％。

 

從上述反響來看，惡臭組分通過處理后，轉(zhuǎn)變?yōu)镹Ox、SO2、CO2、H2O等小分子，在必定的濃度下，各種反響的轉(zhuǎn)化率均在95％以上，并且惡臭濃度較低，因而產(chǎn)品的濃度極低，均能被周邊的***氣所承受。